Die FAP GmbH realisiert in enger Zusammenarbeit mit den Kunden effiziente Technologien zur plasmachemischen Oberflächenbearbeitung.

Aus langjähriger Tätigkeit in Forschung und Entwicklung zur Halbleitertechnologie, Plasma- und Hochfrequenztechnik resultieren das Know how und die Kompetenz der FAP GmbH auf dem Gebiet der
  • plasmachemischen Gasphasenabscheidung (Plasma-CVD) dünner Schichten für elektronische Anwendungen auf großen Flächen und der
  • Plasmapolymerisation von Schichten mit definierten mechanischen, optischen und elektronischen Eigenschaften sowie zu
  • Komponenten der Hochfrequenzleistungstechnik.
Grundlegende Ziele sind technologisch und
technisch ausgereifte Lösungen sowie schnelle, fachmännische Hilfestellung durch
  • Technologienachweis im Unternehmen
  • Kooperation mit kompetenten Lieferanten von Anlagen der Vakuum-Dünnschichttechnik und relevanten Anlagenkomponenten wie beispielsweise Hochfrequenzleistungsversorgungen
  • Zusammenarbeit mit Forschungseinrichtungen und Hochschulen mitleistungsfähiger Meß- und Analysetechnik, z.B. mit der Forschungszentrum Jülich GmbH.
Der bestmöglichen Unterstützung der Kunden der FAP GmbH dient auch deren leistungsfähiger Service zu unmittelbar prozeßbestimmenden peripheren Reaktorbaugruppen, den
  • Generatoren und Anpassungen der Hochfrequenzleistungstechnik und
  • Massenflußreglern.